有机化学实验报告范本9篇
在现实生活中，报告使用的频率越来越高，报告成为了一种新兴产业。相信很多朋友都对写报告感到非常苦恼吧，下面是小编整理的有机化学实验报告（通用9篇），欢迎阅读，希望大家能够喜欢。
实验名称：
硅片的清洗
实验目的：
1.熟悉清洗设备
2.掌握清洗流程以及清洗前预准备
实验设备：
1.半导体兆声清洗机（sfq-1006t）
2.sc-1；sc-2
实验背景及原理：
清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的'油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。
我们这里所用的的是化学清洗。清洗对于微米及深亚微米超大规模集成电路的良率有着极大的影响。sc-1及sc-2对于清除颗粒及金属颗粒有着显著的作用。
实验步骤：
1.清洗前准备工作：
仪器准备：
①烧杯的清洗、干燥
②清洗机的预准备：开总闸门、开空气压缩机；开旋转总电源（清洗设备照明自动开启）； 将急停按钮旋转拉出，按下旁边电源键；缓慢开启超纯水开关，角度小于45o；根据需要给1#、2#槽加热，正式试验前提前一小时加热，加热上限为200o。本次实验中选用了80℃为反应温度。
③sc-1及sc-2的配置：
我们配制体积比例是1：2：5，所以选取溶液体积为160ml，对sc-1 nh4oh：h2o2：h2o=20：40：100ml，对sc-2 hcl：h2o2：h2o=20：40：100ml。
2.清洗实际步骤：
① 1#号槽中放入装入1号液的烧杯，待温度与槽中一样后，放入硅片，加热10min，然后超纯水清洗。
② 2#号槽中放入装入2号液的烧杯，待温度与槽中一样后，放入硅片，加热10min，然后超纯水清洗。
③ 兆声清洗10分钟，去除颗粒
④ 利用相似相溶原理，使用乙醇去除有机物，然后超纯水清洗并吹干。
实验结果：
利用显微镜观察清洗前后硅片图像表面
清洗前硅片照片
清洗后的硅片照片
实验总结：
清洗过后明显地发现硅片表面不像原来那样油腻，小颗粒明显减少。说明我们此次使用实验方法是正确的，实验结果较为成功。
一、实验题目：
固态酒精的制取
二、实验目的：
通过化学方法实现酒精的固化，便于携带使用
三、实验原理：
固体酒精即让酒精从液体变成固体，是一个物理变化过程，其主要成分仍是酒精，化学性质不变。其原理为:用一种可凝固的物质来承载酒精，包容其中，使其具有一定形状和硬度。硬脂酸与氢氧化钠[高二化学实验报告（共2篇）]混合后将发生下列反应: chcooh+naoh → 1735
chcoona+ho 17352
四、实验仪器试剂...
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